Close
(0)
شما هیچ موردی در سبد خرید خود ندارید
همه دسته بندی ها
    Filters
    امکانات
    جستجو

    دستگاه عملیات سطحی یو وی ازون

    290٬000٬000 ریال
    در ساخت ادوات الکترونیکی و اپتوالکترونیکی نظیر سلول های خورشیدی نسل سوم، OLED، سنسورها و ... اغلب مورد نیاز است که سطح زیرلایه ها در حد اتمی تمیز شوند و آلاینده هایی نظیر مواد آلی به طور کامل از روی سطح حذف شوند. روش های متداول تمیز کردن سطح با استفاده از مواد شوینده اغلب لایه ای از مواد آلی را روی سطح به جا می گذارند که برای عملکرد ادوات ذکر شده مشکل ساز است.
    شناسه کالا در انبار: uvc2020
    فروشنده: فن دقیق کوثر

    در ساخت ادوات الکترونیکی و اپتوالکترونیکی نظیر سلول های خورشیدی نسل سوم، OLED، سنسورها و ... اغلب مورد نیاز است که سطح زیرلایه ها در حد اتمی تمیز شوند و آلاینده هایی نظیر مواد آلی به طور کامل از روی سطح حذف شوند. روش های متداول تمیز کردن سطح با استفاده از مواد شوینده اغلب لایه ای از مواد آلی را روی سطح به جا می گذارند که برای عملکرد ادوات ذکر شده مشکل ساز است. روش
     UV-Ozone یک روش ارزان و ساده برای حذف آلاینده هایی نظیر ناخالصی های آلی روی سطح، اثر انگشت، چربی ها و .... است.  همچنین نمونه های تحت تابش باعث آب دوستی سطح هم می گردد. اگر بجای هوا،  اکسیژن وارد محفظه کرد بازدهی کار بسیار زیاد خواهد شد.

    کاربردهایی که تا کنون گزارش شده است عبارتند از:

    o       تمیز کردن زیرلایه های با جنس مختلف قبل از هر نوع  لایه نشانی

    o       تمیز کردن سطح ویفرهای Si, GaAs, InP، ادوات اپتیکی، سلول های خورشیدی، زیر لایه OLED و ...

    o       آماده سازی زیرلایه ها جهت وایر باند و حذف مواد آلی روی سطح

    o       بهبود چسبندگی به سطح پلاستیک ها

    o       ایجاد لایه اکسید نازک روی سطح سیلیکون و سایرمواد

     

    *
    *
    *

    در ساخت ادوات الکترونیکی و اپتوالکترونیکی نظیر سلول های خورشیدی نسل سوم، OLED، سنسورها و ... اغلب مورد نیاز است که سطح زیرلایه ها در حد اتمی تمیز شوند و آلاینده هایی نظیر مواد آلی به طور کامل از روی سطح حذف شوند. روش های متداول تمیز کردن سطح با استفاده از مواد شوینده اغلب لایه ای از مواد آلی را روی سطح به جا می گذارند که برای عملکرد ادوات ذکر شده مشکل ساز است. روش
     UV-Ozone یک روش ارزان و ساده برای حذف آلاینده هایی نظیر ناخالصی های آلی روی سطح، اثر انگشت، چربی ها و .... است.  همچنین نمونه های تحت تابش باعث آب دوستی سطح هم می گردد. اگر بجای هوا،  اکسیژن وارد محفظه کرد بازدهی کار بسیار زیاد خواهد شد.

    کاربردهایی که تا کنون گزارش شده است عبارتند از:

    o       تمیز کردن زیرلایه های با جنس مختلف قبل از هر نوع  لایه نشانی

    o       تمیز کردن سطح ویفرهای Si, GaAs, InP، ادوات اپتیکی، سلول های خورشیدی، زیر لایه OLED و ...

    o       آماده سازی زیرلایه ها جهت وایر باند و حذف مواد آلی روی سطح

    o       بهبود چسبندگی به سطح پلاستیک ها

    o       ایجاد لایه اکسید نازک روی سطح سیلیکون و سایرمواد