Close
(0)
شما هیچ موردی در سبد خرید خود ندارید
همه دسته بندی ها
    Filters
    امکانات
    جستجو

    دستگاه پوشش دهی تحت خلا به روش PVD

    80٬000٬000٬000 ریال
    ایجاد پوشش های لایه نازک فوق سخت و روانکار و مقاوم به سایش و خوردگی روی انواع قطعات صنعتی که نیازمند ایجاد مقاومت سطحی هستند. این پوششها دارای تنوع ترکیب و نانو ساختار هستند و به صورت ساختارهای کریستالی نانو لایه ، نانو کامپوزیت و شبه الماسه رسوب داده میشوند . از مهمترین کاربرد های تعریف شده برای این فناوری ، پوشش دهی انواع ابزار برشی ، انواع قالب و انواع قطعات تحت سایش و خوردگی که در صنایع خودرو ، پزشکی ، نیروگاهی و هوا فضا و ... میباشد. این محصول برای ایجاد پوشش های نانو کامپوزیتی فوق سخت و خودروانکار روی قطعات صنعتی که نیاز به خواص سطحی ویژه از لحاظ تریبولوژی هستند به کار میروند.این پوششها از نوع نانو کامپوزیتی هستند که از دو بخش اصلی تشکیل میگردند. بخش اول – شامل ساختار زمینه پوشش ، متشکل از کربن شبه الماسه و یا Si3N4با ساختار آمورف میباشد بخش دوم- شامل نانو کریستالهای کاربید فلزی و یا نیترید فلزی با اندازه کمتر از 10نانو متر است که در زمینه بی شکل کربن شبه الماسه رسوب مینماید. محصول این فرایند ایجاد یک پوشش با سختی بسیار زیاد و تافنس عالی و از همه مهمتر دارای خاصیت تریبولوژیکی منحصر به فرد از لحاظ ضریب اصطحکاک و رافنس میباشد. از الزامات این پوشش ها شامل کنترل دقیق فرایند جهت دستیابی به ساختار مورد نظر و عدم وجود عیوب پوشش مثل میکرو ذرات است
    محصولات این شرکت به طور کلی شامل دستگاههای پوشش دهی در خلا به روش PVDمیباشد که بر اساس
    نوع پوشش های مورد انتظار از دستگاه دارای تنوع طراحی و مدل است این دستگاه از طریق قرار گیری قطعه در محفظه خلا و روی یک
    میز گردان با حرکت سیاره ای و سپس ایجاد خلا تا فشار کمتر از
    10 -5 mbarو تبخیر ویونیزاسیون عناصر فلزی مانند تیتانیم و ... و
    ورود همزمان گازهای واکنش دهنده مانند نیتروژن فرایند رسوب پوشش های سرامیکی فوق سخت روی سطح قطعات را انجام میدهد.
    اجزا اصلی دستگاه شامل قسمت ایجاد خلا و محفظه خلا ، کاتدها ، منابع تغذیه ، رک کنترلی و نرم افزار میباشد
    .
    دستگاه شامل یک محفظه خلا است که قلب راکتور پوشش دهی به حساب می آید . در داخل این محفظه یک کاروسل با حرکت سیاره
    ای ، کاتدها که فرایند تبخیر عناصر فلزی را انجام میدهند ، المنت ها جهت گرمایش قطعات و سنسورهای مربوطه قرار دارد همچنین
    محفظه از طریق یک پورت به پمپ های ایجاد خلا متصل است
    .این پمپ ها شامل پمپ های روتاری ، روتس و پمپ های دیفیوژن
    هستند . دستگاه دارای منابع تغذیه برای عملکرد کاتدها و یک منبع تغذیه برای عملکرد فرایند رسوب گذاری میباشد. کل فرایند توسط
    رک کنترلی دستگاه و نرم افزار روی سیستم
    plcکنترل و اجرا میشود.
    دستگاه از 5بخش اصلی تشکیل شده است که به شرح ذیل میباشد.
    .1بخش ایجاد خلا : شامل محفظه خلا ، پمپ های ایجاد خلا ، شیر ها و اتصالات خلا و سنسور های مربوطه
    .2بخش لایه نشانی : شامل کاروسل ایزوله و کاتد ها
    .3بخش منابع تغذیه : شامل منبع تغذیه بایاس و منبع تغذیه آرک
    .4بخش رک کنترلی : شامل سیستم
    PLCو صفحه HMIو مدارات الکتریکی
    .5نرم افزار دستگاه
    مشخصات فنی دستگاه به شرح فایل پیوست ارائه میگردد
    .
    عملکرد دستگاه : ابتدا سیستم خلا فعال شده و میزان فشار محفظه خلا را تا 5*10-5 mbarکاهش میدهد سپس سیستم لایه نشانی
    فعال گردیده و ابتدا سطح قطعات را با یون
    + Ar+ , Meبمباران یونی مینماید و در ادامه فرایند تبخیر عناصر فلزی و شبه فلزی و
    یونیزاسیون آنها انجام میگیرد و نانو ذرات تشکیل دهنده پوشش به سمت قطعه هدف شتاب دهی و رسوب داده میشوند. در تمام طول
    فرایند ، نرم افزار دستگاه با سیستم کنترل
    plcقابلیت اجرا و کنترل فرایند بصورت کاملا اتوماتیک را انجام میدهد

     

    *
    *
    *
    محصولات این شرکت به طور کلی شامل دستگاههای پوشش دهی در خلا به روش PVDمیباشد که بر اساس
    نوع پوشش های مورد انتظار از دستگاه دارای تنوع طراحی و مدل است این دستگاه از طریق قرار گیری قطعه در محفظه خلا و روی یک
    میز گردان با حرکت سیاره ای و سپس ایجاد خلا تا فشار کمتر از
    10 -5 mbarو تبخیر ویونیزاسیون عناصر فلزی مانند تیتانیم و ... و
    ورود همزمان گازهای واکنش دهنده مانند نیتروژن فرایند رسوب پوشش های سرامیکی فوق سخت روی سطح قطعات را انجام میدهد.
    اجزا اصلی دستگاه شامل قسمت ایجاد خلا و محفظه خلا ، کاتدها ، منابع تغذیه ، رک کنترلی و نرم افزار میباشد
    .
    دستگاه شامل یک محفظه خلا است که قلب راکتور پوشش دهی به حساب می آید . در داخل این محفظه یک کاروسل با حرکت سیاره
    ای ، کاتدها که فرایند تبخیر عناصر فلزی را انجام میدهند ، المنت ها جهت گرمایش قطعات و سنسورهای مربوطه قرار دارد همچنین
    محفظه از طریق یک پورت به پمپ های ایجاد خلا متصل است
    .این پمپ ها شامل پمپ های روتاری ، روتس و پمپ های دیفیوژن
    هستند . دستگاه دارای منابع تغذیه برای عملکرد کاتدها و یک منبع تغذیه برای عملکرد فرایند رسوب گذاری میباشد. کل فرایند توسط
    رک کنترلی دستگاه و نرم افزار روی سیستم
    plcکنترل و اجرا میشود.
    دستگاه از 5بخش اصلی تشکیل شده است که به شرح ذیل میباشد.
    .1بخش ایجاد خلا : شامل محفظه خلا ، پمپ های ایجاد خلا ، شیر ها و اتصالات خلا و سنسور های مربوطه
    .2بخش لایه نشانی : شامل کاروسل ایزوله و کاتد ها
    .3بخش منابع تغذیه : شامل منبع تغذیه بایاس و منبع تغذیه آرک
    .4بخش رک کنترلی : شامل سیستم
    PLCو صفحه HMIو مدارات الکتریکی
    .5نرم افزار دستگاه
    مشخصات فنی دستگاه به شرح فایل پیوست ارائه میگردد
    .
    عملکرد دستگاه : ابتدا سیستم خلا فعال شده و میزان فشار محفظه خلا را تا 5*10-5 mbarکاهش میدهد سپس سیستم لایه نشانی
    فعال گردیده و ابتدا سطح قطعات را با یون
    + Ar+ , Meبمباران یونی مینماید و در ادامه فرایند تبخیر عناصر فلزی و شبه فلزی و
    یونیزاسیون آنها انجام میگیرد و نانو ذرات تشکیل دهنده پوشش به سمت قطعه هدف شتاب دهی و رسوب داده میشوند. در تمام طول
    فرایند ، نرم افزار دستگاه با سیستم کنترل
    plcقابلیت اجرا و کنترل فرایند بصورت کاملا اتوماتیک را انجام میدهد